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Allgemein

 


  • Mikroskopische Untersuchung rauer und spiegelnder Oberflächen
  • Ebenheits- und Profilmessung
  • Sehr großer Messbereich und sehr großes Messfeld
  • Drei wählbare Messfelder von 10 x 10 mm bis 40 x 40 mm
  • Laterale Auflösung: 20 – 80 µm
  • Vertikale Auflösung:  < 1 nm

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 
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